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洁美科技:柔创纳米未来将开发选择性原子层堆积与刻蚀技能与配备

作者:米兰平台app下载安装    来源:milan体育    发布时间:2025-07-12 02:19:45    浏览量:

  同花顺300033)金融研究中心05月06日讯,有投资者向洁美科技002859)发问, 你好,公司参股11%的子公司柔创纳米已成功开发并完成出售的ALD包覆设备,完成了我国在该范畴的打破,是继美国之后国际第二家完成该技能产业化的国家。依据其子公司武汉柔电官网,现在其ALD设备首要运用在在锂离子电池负极资料或许隔阂资料的改性上,未来该产品是不是会寻求在半导体制程方面打破?

  公司答复表明,柔创纳米现阶段依然以ALD在硅碳负极和固态电池资料范畴为打破口,未来将会环绕选择性原子层堆积与刻蚀技能与配备进行开发,有望应用在半导体方面。

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