代表全球光刻机顶配水平的ASML TWINSCAN NXE:3800E光刻机已在RAPIDUS工厂交给并开端装置，用来满意首代量产工艺2nm的制作需求。
这也标志着日本半导体工业复兴的前奏摆开，自从广场协议后日本迫于压力交出半导体商场老迈位置后，日本长时间在半导体工业的上游布局，在原材料和设备端发力，尽管设备端由于当年忽视湿法刻蚀技能，佳能和尼康被荷兰ASML逾越，但在半导体原材料范畴日本企业一家独大，特别是在晶圆硅片和光刻胶范畴，操控着商场供应。
跟着中美科技竞赛的日益剧烈，半导体工业链全球化分工被打破，供应平衡和安全成为摆在各国面前的重要问题，也代表着大国兴起的机会。
正因如此，日本政府才重燃夺回半导体霸主的野心，从大力补助台积电在熊本县和索尼建立合资代工厂，到合纵连横几大日本财团企业建立RAPIDUS，日本对向2纳米制程冲击的野心不再粉饰。
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